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膜内部电子环境考虑：
  阳离子空位：P型半导体如FeO，Fe3O4膜
  阴离子空位：N型半导体如Fe2O3膜
  过程解释：氧化过程的主要是氧离子和铁离子(合金元素形成的离子)在氧化层中的扩散，同时也是电子传导过程。这个氧化腐蚀的过程，本质上也是一个电化学腐蚀过程。这也是不锈钢和耐热钢在理论上的共同基础。
  实际工件表面的氧化层，还有以下性质：
  ①通过对氧化物体积和被氧化物体积的比较，判断氧化膜是否覆盖工件表面;
  例：V(FeO)：V(Fe)=1.77;V(Fe3O4)：V(Fe)=2.09
  V(Fe2O3)：V(Fe)=2.14
  判定：大于1说明可以覆盖表面，考虑体积，比值，层与层的应力，可以推断出容易起皮。
  ②生成的氧化物结晶结构和致密性;
  ③和基体金属的结合。
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