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无锡FAB工厂负责人Kang Young Soo表示,通过完成C2F厂房的建设,将能确保SK海力士无锡FAB的中长期竞争力。通过将C2F和C2作为一个FAB运营,将 限度地提高无锡FAB工厂的生产和运营效率。
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C2F是一个单层FAB厂房,建筑面积58000平方米,建筑规模与现有的C2 FAB厂房相似。SK海力士已完成了部分C2F洁净室的建设,安装设备后将开始生产DRAM,也会根据市场情况灵活确定额外洁净室建设和设备安装的时间。
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为了改善NAND Flash和DRAM市场供过于求的市况,美光决定减少Wafer投片量以及减少资本支出来平衡市场供需。三星则招募 人才,专注于先进DRAM技术,提高市场竞争力,同时三星大批量人事异动,专找人工智能、大数据和机器人领域的 人才,以加强其未来的新业务。
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