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电镀铜(copper(electro)plating;electrocoppering )
用于铸模,镀镍,镀铬,镀银和镀金的打底,修复磨损部分,防止局部渗碳和提高导电性。分为碱性镀铜和酸性镀铜二法。通常为了获得较薄的细致光滑的铜镀层,将表面除去油锈的钢铁等制件作阴极,纯铜板作阳极,挂于含有氰化亚铜、 和碳酸钠等成分的碱性电镀液中,进行碱性( )镀铜。为了获得较厚的铜镀层,必须先将镀件进行碱性镀铜,再置于含有硫酸铜、硫酸镍和硫酸等成分的电解液中,进行酸性镀铜。此外,还有焦磷酸盐、酒石酸盐、乙二胺等配制的无氰电解液。焦磷酸盐电解液已被广泛采用。
阴极表面溶液浓度渐稀的异常液膜称为阴极膜(Cathode Pilm)或扩散层(Diffusion Layer),系指原始铜浓度Cu++重量比下降l%起(99%)到阴极的0%为止的薄液层而言。原本水分子与铜离子所组成的阴极膜,其各处膜厚并不均匀,加入载运剂后此薄膜即将变为厚度增加且均匀性更好的液膜,使得镀铜层厚度也渐趋均匀。本剂可采CVS或HPLC进行分析。
实用电镀铜槽液中其实早已加入许多有机添加剂,使得简单铜离子(Cu++)的四周,会自动吸附了许多临时配位的有机物,因而带正电性往阴极泳动较大型的铜游(离)了团,其于极面进行反应所需要的外电压,自必会比简单离子要高一些。于是其超电压或极化情形又会增多了一些。一般电镀业者的"极化"观念,多半是着眼在加入有机助剂后,针对原始配方在反应中所超出的电位,或所增加的极化而言。




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采用电镀生产工艺,实现铜与钢的高度结合。外表铜层为含量99.99%电解铜份分子组成,它既克服了套管法生产
工艺存在的原电池反应的弊端,又解决了热浸连铸工艺存在的铜层纯度不足及表面铜层阴阳面等弊端。

材料表明铜层较厚且为99.99%的电解铜分子,平均厚度大于0.25mm,因而耐腐蚀性强,使用寿命长达50年以上。由于表层铜层由99.99%的电解铜分子组成,因而具有优良的导电性能,自身电阻远远低于常规材料。

该产品适用于不同湿度、温度及PH值的土壤条件,配件齐全,使用专用连接管或采用倍速达热熔焊剂连接,接头牢固,安装便捷,大大提高了施工效率。
对比传统上采用纯铜材料接地,成本大幅度下降。
 




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